Метод: ионное утонение Кол-во ионных источников: 2 Диапазон рабочих энергий : от 100 эВ до 10,0 кэВ Диапазон регулируемых углов полировки: от – 15° до + 10°
Поставка оборудования для микроэлектроники https://atomstroy-ng.ru/dopoborudovanie
Автоматическая установка экспонирования https://atomstroy-ng.ru/galvanichoborudovanie
Санкт-Петербург, Ленинский проспект, д https://atomstroy-ng.ru/avtomatichultrazvuklinii
153, офис 906 https://atomstroy-ng.ru/sistemaventilyacii
Комплектующие и расходные материалы включают магнетроны различных конфигураций: протяжённые, круглые, предназначенные для генерации плазмы https://atomstroy-ng.ru/ustanovkanikelirovaniya
Источники ионов, доступные в протяжённых и круглых вариантах, которые используются для ионизации газа в процессах плазмохимического травления и напыления https://atomstroy-ng.ru/ustanovkasuchkiplastin
Нагреватели, необходимые для контроля температурных условий во время производственных операций https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaadonirovanie
Корпусные и бескорпусные диски для резки кремния, арсенида галлия, фосфида галлия, кварца и других материалов https://atomstroy-ng.ru/
Наши возможности по оборудованию https://atomstroy-ng.ru/ustanovkaadonirovanie
|
Добавить объявление
Связаться с нами
